真空干燥箱为什么必须先抽真空再升温加热?
真空干燥箱为什么必须先抽真空再升温加热?
取样:五点取样法
要领:按对角线取五个点,不要表层,每点一铁锹共取一桶。
使取的煤样尽量具有代表性,随机取样。将取的煤样拌匀,分选,最后留下一公斤左右作为特化验煤样,如果有块煤请挑选出过破碎机。
化验水分
采过来的煤第一步需要做水分,也就是没得外水。
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一、产品用途:
高温试验箱/高温干燥箱可以用来考核和确定电工、电子产品或材料在温度循环变化,产品表面产生高温老化环境条件下贮存和使用的适应性。设备采用强迫空气循环来保持工作室内温度的均匀性。为限制辐射影响,设备内壁各部分温度与试验规定的温度之差不大于8%,且试验样品不会受到设备内加热与冷却元件的直接辐射。
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供厂矿企业、大专院校、科研及各类实验室等在真空条件下对物品进行干燥热处理;
【产品优点】1、长方形工作室,使有效容积达到最大,不锈钢内胆;2、钢化、防弹双层玻璃门,观察工作室内物体一目了然;3、箱门闭合松紧能调节,整体成型的硅橡胶门封圈,确保箱内高真空度;4、采用微电脑智能式控温仪,控温精度可靠;5、工作温度任意设定,并具有偏差报警功能;6、控制、调节元件均安装在面板上,使用方便;7、工作室采用不锈钢板。确保产品经久耐用。【主要参数】产品型号DZF-2001DZF-2002DZF-2003真空度<133PA<133PA<133PA工作室尺寸(cm3)27.5×30×3045×45×4565×65×65工作电压220V220V220V额定功率0.4KW0.8KW1.2KW控温范围50-200℃50-200℃50-200℃控温精度≤±1℃≤±1℃≤±1℃
... 扩散炉用作半导体器件和集成电路生产中进行半导体微粒扩散和氧化工艺的设备,是由耐高温石英材料制成的管状电阻加热炉,在其主加热段,电热丝均匀环绕其上,可以完成硼扩散、磷扩散、氧化、退火等半导体材料的实验与生产工艺。
作为本例控制对象的扩散炉,其技术指标列举如下:
硅片规格:4”,6”,8”。
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